常翔学園 広島国際大学図書館

クラスターイオンビーム基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術

山田公編著. -- 日刊工業新聞社, 2006. <BB99108714>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 禁帯出区分 状態 返却予定日 予約
0001 広国呉 広呉図書1F 549.1||Y 30862250 帯出可 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 広国呉
配置場所 広呉図書1F
請求記号 549.1||Y
資料ID 30862250
禁帯出区分 帯出可
状態
返却予定日
予約 0件

書誌詳細

タイトル/著者 クラスターイオンビーム基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術 / 山田公編著
クラスター イオン ビーム キソ ト オウヨウ : ジセダイ ナノ カコウ プロセス ギジュツ
出版・頒布事項 東京 : 日刊工業新聞社 , 2006.10
形態事項 xi, 223p ; 21cm
巻号情報
ISBN 4526057657
その他の標題 標題紙タイトル:Cluster ion beam technology : advanced nano fabrication process
その他の標題 標題紙タイトル:クラスターイオンビーム : 基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術
クラスター イオン ビーム : キソ ト オウヨウ : ジセダイ ナノ カコウ プロセス ギジュツ
学情ID BA79102802
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 山田, 公||ヤマダ, イサオ <AU00024884>
件名標目等 イオンビーム||イオンビーム